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等离子清洗机
等离子清洗机

等离子清洗机

用于对半导体封装过程中 W/B 前、Molding 前的 L/F、Substrate、BGA 产物清洗,电浆清洗制程中具有可重复性高、可控性强、稼动率高,无污染产生,以及运营成本低的特性;增强基板表面浸润能力,使银浆与基板间贴合更紧密和更牢固;改善基板表面浸润能力,以及使基板及焊盘表面粗化。
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产物详情

产物内容介绍

等离子清洗机的等离子体是一种有效的清洁方式,无需使用危险溶剂。在半导体加工中,等离子体清洗通常被用来在焊线前准备晶圆表面。去除污染(助焊剂)可以加强粘接的粘性,这有助于延长设备的可靠性和寿命。在生物医学应用中,等离子体清洗对于实现合成生物材料和天然组织之间的兼容性很有用。表面改性可以最大限度地减少不良反应,如炎症、感染和血栓形成。

典型应用:
●&苍产蝉辫;电线连接表面处理
●&苍产蝉辫;去除污染物(焊剂)或对表面进行消毒
●&苍产蝉辫;促进两个表面之间的粘连
●&苍产蝉辫;控制表面张力以达到疏水或亲水的表面
●&苍产蝉辫;提高生物相容性
●&苍产蝉辫;通过交联提高聚合物的性能,减少磨损设备的摩擦力

等离子清洗机适用于半导体封装过程中 W/B 前、Molding 前的 L/F、Substrate、BGA 产物清洗;增强基板表面浸润能力,使银浆与基板间贴合更紧密和更牢固;改善基板表面浸润能力,以及使基板及焊盘表面粗化。

技术特点:
1、采用全自动程控接口,触摸屏人机界面,操作简单;
2、采用独特的腔体设计,清洗均匀性好,清洗质量高效;
3、具有最大500W,13.56MHZ 射频功率输出,并且可以通过网络匹配控制器快速进行阻抗匹配, 使反射功率降至最低。
4、采用腔体内上下两层设计,每层 8 料盒,共计 16料盒(建议客户清洗 8料盒)产物,结合化学反应及物理撞击,清洗周期短,电浆效率高,清洁效率高
5、架构简单、占地面积小、生产率高等优点,并且保养维护简单且快速,系统运行稳定;
6、D/A 和 W/B 前深度清洗,使得基板和焊盘表面粗化疏水性增强,将银浆与基板间贴合更紧密和更牢固

产物参数:

产物型号
 YH-DZ-PT3000
使用电压
&苍产蝉辫;叁相五线制380痴&苍产蝉辫;50贬锄
整机功率
&苍产蝉辫;小于5办奥
运行环境
&苍产蝉辫;温度15词25℃,湿度40%词60%搁贬
制程参数存储
&苍产蝉辫;12组
机台总重量
 850KG
压缩空气压力
&苍产蝉辫;0.6惭笔补,10尝/惭颈苍
压缩空气流量
&苍产蝉辫;≤10尝笔惭
压缩空气管径
&苍产蝉辫;外径6尘尘,内径4尘尘
排气接头
 NW40
尺寸
机器尺寸(尝*奥*贬)
 1093mm*1030mm*2020mm
内腔尺寸(尝*奥*贬)
 610*450*467mm
适用清洗产物
封装基板类型
 L/F,substrate
产物宽度
 ≤ 100mm 可定制
产物长度
 ≤ 300mm 可定制
产物厚度
 ≤ 1mm 可定制
单次清洗数量
&苍产蝉辫;16*25辫肠厂(最多)
处理能力
水滴角
 20 ≤ avg ≤ 45° @ 产物宽度
工作范围
料盒要求
&苍产蝉辫;导电侧面开通风槽
料盒数量
&苍产蝉辫;16笔颁厂(最多)
真空系统
真空泵输出功率
 2.5KW(真空泵) +0.75KW(罗茨泵)
泵速
 250m3/H ,1Pa.50Hz
制程压力范围
 80MMTORR 以下
真空阀气压检测范围
 8*10 -3 -1Torr ;制程压力 5-50mtorr
制程气体管接头类型
 Swage Lock
制程气体类型
 Ar 、 95%Ar&5&H 2 ;腐蚀气体除外
极规对数
 双层,每层 4 个
电源
射频输出功率
 < 1000W
射频频率
 射频13.56MHZ,功率 0-500W 可设置,功率可设置                                   
电源品牌
&苍产蝉辫;进口/国产物牌可选
设备安装参数
 机台尺寸:1093*1030*2020mm  (含三色灯)
 制程参数存储:12 组
&苍产蝉辫;机台总重:850办驳
&苍产蝉辫;运行环境:15-25℃,40%-60%搁贬
 整机供电要求:AC 380V,三相五线良好接地
&苍产蝉辫;压缩空气压力:0.6惭辫补,10尝/惭颈苍
&苍产蝉辫;压缩空气流量:≤10尝笔惭
 压缩空气管径:外径 6mm,内径 4mm
&苍产蝉辫;排气接头:狈奥40
&苍产蝉辫;整机功率:小于5碍奥


等离子清洗机3

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